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| 产品分类 | 有机原料 >> 羧酸类化合物及衍生物 >> 羧酸酯及其衍生物 |
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| 产品名称 | 甲基丙烯酸 2-((1,1-二氧化六氢-3,5-甲桥环戊二烯并[c][1,2]氧杂硫杂环戊烯-7-基)氧基)-2-氧代乙酯 |
| 英文名 | 2-((1,1-Dioxidohexahydro-3,5-methanocyclopenta[C][1,2]oxathiol-7-YL)oxy)-2-oxoethyl methacrylate |
| 别名 | [2-[(5,5-dioxo-4-oxa-5λ6-thiatricyclo[4.2.1.03,7]nonan-2-yl)oxy]-2-oxoethyl] 2-methylprop-2-enoate |
| 分子结构 | ![]() |
| 分子式 | C13H16O7S |
| 分子量 | 316.33 |
| CAS 登录号 | 1135824-87-1 |
| 分子行输入简码 SMILES | CC(=C)C(=O)OCC(=O)OC1C2CC3C1OS(=O)(=O)C3C2 |
| 密度 | 密度 |
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CAS 1135824-87-1 常以 SNBMA 的简称出现,是一种结构很能体现先进聚合物材料设计思路的甲基丙烯酸酯单体。分子的一端是可进行自由基聚合的甲基丙烯酸酯双键,因此能够进入聚合物主链;另一端则连接一个刚性、富含氧原子并含高价硫中心的桥环结构。把这两种功能放在同一个分子中,意味着材料化学家在构建聚合物的同时,就能把特定的侧链性质直接写入材料,而不必完全依赖后来加入的小分子添加剂。 这种设计思路与现代光刻胶的发展密切相关。化学放大型光刻胶并不是把感光剂简单溶解在一个惰性树脂中;聚合物本身会影响成膜、玻璃化转变、极性、显影液作用、光生酸扩散以及图形的机械稳定性。甲基丙烯酸酯体系之所以常被采用,一方面是因为其聚合化学成熟,另一方面是因为酯基一侧很容易连接不同功能基团。对于要求高分辨率的光刻材料,刚性脂环或桥环侧基尤其有价值,因为它们可以限制分子运动,并帮助调节薄膜的溶解和热行为。 SNBMA 正好把这种“主链负责成膜、侧链负责调性能”的思路集中在一个小分子中。甲基丙烯酸酯部分提供聚合位点,而桥环含硫侧基则带来刚性和多个杂原子,可改变聚合物的极性、自由体积以及与其他配方组分的相互作用。实际光刻性能当然不能只由一个单体决定,还取决于共聚组成、分子量、光酸发生剂、曝光与烘烤条件以及显影体系,因此不能仅凭 CAS 号给它指定一个固定的分辨率或灵敏度。 关于 CAS 1135824-87-1 本身的公开论文并不多,现有公开资料更多来自专用化学品和材料数据库。这种情况在半导体材料中并不少见:真正决定配方性能的单体和添加剂,往往属于高度专业化的工业化学品,并不一定拥有大量独立论文。 因此,SNBMA 最值得记住的并不是一个孤立的用途标签,而是一种分子设计方法:把“能够聚合”和“能够调节薄膜性质”两项任务装进同一个单体。在纳米尺度加工中,侧链造成的极性、刚性和分子运动差异,都可能影响显影边界是否清晰以及图形是否保持完整。一个看起来极其复杂的系统命名,背后其实是一个很直接的材料科学目标——从单体开始设计最终薄膜。 参考文献: 1. ChemicalBook,CAS 1135824-87-1,SNBMA 身份与结构资料。 2. Ito H. Chemical amplification resists: history and development within microlithography. Adv Polym Sci. 2005;172:37-245. 3. Willson CG, Ito H, Frechet JMJ, Tessier TG, Houlihan FM. J Electrochem Soc. 1986;133:181-187. |
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