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| 产品分类 | 表面活性剂 >> 阴离子表面活性剂 >> 磺酸盐型 |
|---|---|
| 产品名称 | 2,3,4-三羟基二苯甲酮 三(1,2-萘醌-2-叠氮代-5-磺酸酯) |
| 英文名 | 2,3,4-Trihydroxybenzophenone tris(1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonate) |
| 别名 | 5-[4-benzoyl-2,3-bis[(6-diazonio-5-oxidonaphthalen-1-yl)sulfonyloxy]phenoxy]sulfonyl-2-diazonionaphthalen-1-olate |
| 分子结构 | ![]() |
| 分子式 | C43H22N6O13S3 |
| 分子量 | 926.87 |
| CAS 登录号 | 5610-94-6 |
| EC 号码 | 227-030-9 |
| 分子行输入简码 SMILES | C1=CC=C(C=C1)C(=O)C2=C(C(=C(C=C2)OS(=O)(=O)C3=CC=CC4=C3C=CC(=C4[O-])[N+]#N)OS(=O)(=O)C5=CC=CC6=C5C=CC(=C6[O-])[N+]#N)OS(=O)(=O)C7=CC=CC8=C7C=CC(=C8[O-])[N+]#N |
| 危险品标志 | |||||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 危害标签 | H228-H242 说明 | ||||||||||||
| 防护标签 | P210-P234-P235-P240-P241-P280-P370+P378-P403-P410-P411-P420-P501 说明 | ||||||||||||
| 危害分类 | |||||||||||||
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2,3,4-三羟基二苯甲酮三(1,2-萘醌-2-二叠氮-5-磺酸盐)是一种特殊的化合物,因其在光刻领域和作为感光材料的应用而得到认可。这种化合物是在 20 世纪后期作为先进光刻胶材料持续研究的一部分而开发的。研究人员试图提高半导体制造和其他微加工工艺中使用的光刻胶的灵敏度和分辨率。该化合物的结构以三取代的二苯甲酮核心为特征,该核心与萘醌二叠氮部分相连,有助于其有效的光吸收特性。 2,3,4-三羟基二苯甲酮三(1,2-萘醌-2-二叠氮-5-磺酸盐)的主要应用在于其在半导体制造中使用的光刻工艺中作为光刻胶的作用。作为一种感光材料,它在暴露于紫外线 (UV) 光时会发生化学变化,从而能够将复杂的图案转移到硅晶片等基板上。这一过程对于集成电路和其他电子元件的生产至关重要。该化合物能够进行光化学反应,因此适合生成高分辨率图案,这对于电子设备的小型化至关重要。 除了用于半导体应用外,2,3,4-三羟基二苯甲酮三(1,2-萘醌-2-二叠氮化物-5-磺酸盐)还可用于生产光学设备和微机电系统 (MEMS)。该化合物的光反应特性使其可用于需要精确图案化的各种涂层和粘合剂层。将其加入光刻胶配方中可提高整体性能,与传统光刻胶相比,可提供更好的灵敏度和稳定性。 这种化合物的开发促进了电子行业的进步,特别是在生产高密度电路和性能更佳的设备方面。随着对更小、更快、更高效的电子元件的需求不断增长,使用 2,3,4-三羟基二苯甲酮三(1,2-萘醌-2-二叠氮化物-5-磺酸盐)等专用材料至关重要。研究人员正在不断探索优化其性能的方法,并开发满足半导体行业不断变化的需求的新配方。 在使用这种化合物时,安全和监管考虑也很重要。光刻胶的处理和加工涉及紫外线照射,因此需要在工业环境中采取严格的安全措施。制造商必须遵守有关使用化学物质的法规,确保工人受到保护并将环境影响降至最低。 总之,2,3,4-三羟基二苯甲酮三(1,2-萘醌-2-二叠氮化物-5-磺酸盐)是光刻和微加工领域的重要化学物质。它的发现标志着先进光刻胶材料的发展向前迈出了一步,促进了半导体制造中高分辨率图案的创建。随着技术的不断进步,这种特殊化合物的重要性在满足电子行业的需求方面仍将至关重要。 参考文献 none |
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