二丙烷三甲醇四丙烯酸酯
[CAS# 94108-97-1]

基本信息

• 产品分类: 化学试剂 >> 有机试剂 >> 酯类
• 产品名称: 二丙烷三甲醇四丙烯酸酯
• 英文名: Ditrimethylolpropane tetraacrylate
• 分子式: C₂₄H₃₄O₉
• 分子量: 466.52
• CAS 登录号: 94108-97-1
• EC 号码: 302-434-9
• 分子行输入简码SMILES: CCC(COCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C

物理化学性质

• 密度: 1.1±0.1 g/cm³, 计算值^*, 1.101 g/cm³, (25 °C)
• 折射率: 1.480, 计算值^*, 1.479
• 沸点: 540.4±50.0 °C (760 mmHg), 计算值^*
• 闪点: 228.2±30.2 °C, 计算值^*

^* 使用计算机软件 Advanced Chemistry Development (ACD/Labs) Software.

安全数据

• 危险品标志: GHS07;GHS09 警告
• 危害标签: H315-H319-H335
• 防护标签: P261-P264-P264+P265-P271-P280-P302+P352-P304+P340-P305+P351+P338-P319-P321-P332+P317-P337+P317-P362+P364-P403+P233-P405-P501

危害分类

危害	分类	类别码	危害标签
眼刺激	Eye Irrit.	2	H319
皮肤刺激	Skin Irrit.	2	H315
特定目标器官毒性—单次接触	STOT SE	3	H335
对水生环境长期有害	Aquatic Chronic	2	H411

发现和应用

二三羟甲基丙烷四丙烯酸酯 (DTMPTA) 是一种多功能丙烯酸酯单体，属于广泛用于紫外线和电子束 (EB) 固化应用的丙烯酸酯家族。其化学结构以存在四个丙烯酸酯基团为特征，具有显著的交联能力，非常适合用于各种高性能涂料、粘合剂和油墨。DTMPTA 是一种无色至淡黄色液体，在聚合反应中具有出色的反应性和多功能性。

DTMPTA 的发现和开发源于对可以改善聚合物网络性能的丙烯酸酯的广泛研究。随着行业寻求更有效的方法来实现快速固化和耐用的涂层，尤其是在紫外线固化系统中，DTMPTA 的四官能结构使其极具吸引力。它能够形成致密交联的聚合物，从而提高最终产品的机械性能、耐化学性和硬度。

DTMPTA 的主要应用之一是 UV 和 EB 固化工艺，它是配制高性能涂料、粘合剂和密封剂的关键成分。由于其具有多个丙烯酸酯基团，DTMPTA 在暴露于紫外线或电子束时会促进快速聚合，从而在室温下高效固化，而无需挥发性有机化合物 (VOC)。这使其成为汽车、电子和包装等各个行业的环保选择，这些行业都需要快干和耐用的涂层。

在 3D 打印领域，DTMPTA 作为光聚合物树脂中的关键单体已变得非常重要。其高交联潜力可确保 3D 打印物体具有强大的机械性能、出色的表面硬度和耐磨性。这使得 DTMPTA 成为使用增材制造技术制造耐用原型和成品的必不可少的成分。

DTMPTA 的另一个应用是在粘合剂和密封剂中，其交联能力可增强材料的粘合强度和耐用性。尤其是，用 DTMPTA 配制的 UV 固化粘合剂以其快速固化时间和强粘合性而闻名，使其适用于电子、医疗设备和工业装配应用。

DTMPTA 的使用扩展到特种油墨的生产，尤其是在印刷行业。含有 DTMPTA 的 UV 固化油墨对各种基材具有出色的附着力、快速干燥时间和更高的耐用性，使其成为高速印刷工艺的理想选择。这些油墨广泛用于包装行业，其中快速生产周期和高质量印刷至关重要。

参考文献

2009 Synthesis of Poly(Methylmethacrylate) Latex with Enhanced Rigidity through Surfactant Control. MRS Online Proceedings Library, 1134.
DOI: 10.1557/proc-1134-bb05-10

2016 Tissue mechanics promote IDH1-dependent HIF1α-tenascin C feedback to regulate glioblastoma aggression. Nature Cell Biology, 18(12).
DOI: 10.1038/ncb3429

2022 Generating Microstructures with Highly Variable Mechanical Performance using Two-Photon Lithography and Thiol-ene Photopolymerization. Chinese Journal of Polymer Science, 40(11).
DOI: 10.1007/s10118-022-2802-5