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产品分类 | 有机原料 >> 有机硅化合物 |
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英文名 | Hexamethyldisilazane |
别名 | 1,1,1,3,3,3-Hexamethyldisilazane; 1,1,1-Trimethyl-N-(trimethylsilyl)silanamine; Hexamethyl disilizane; HMDS |
产品名称 | 六甲基二硅氮烷 |
分子结构 | ![]() |
分子式 | C6H19NSi2 |
分子量 | 161.39 |
CAS 登录号 | 999-97-3 |
EC 号码 | 213-668-5 |
分子行输入简码 SMILES |
C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C |
水溶性 | react |
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密度 | 0.765 g/mL (实验值) |
熔点 | -78 ºC (实验值) |
沸点 | 125 ºC (实验值) |
折射率 | 1.407 (实验值) |
闪点 | 20 ºC (实验值) |
危险品标志 |
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危害标签 | H225-H302+H332-H302-H311-H314-H332-H412 说明 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
防护标签 | P210-P233-P240-P241-P242-P243-P260-P261-P262-P264-P270-P271-P273-P280-P301+P317-P301+P330+P331-P302+P352-P302+P361+P354-P303+P361+P353-P304+P340-P305+P354+P338-P316-P317-P321-P330-P361+P364-P363-P370+P378-P403+P235-P405-P501 说明 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
危害分类 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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SDS | 化学品安全技术说明书参考文本 危险化学品 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
六甲基二硅氮烷是一种有机硅化合物,在各个行业中都具有重要用途。六甲基二硅氮烷 (HMDS) 由两个甲基基团与一个中心硅原子连接而成,主要用作硅烷化剂,为改变表面性质和增强化学反应性提供了途径。其结构由硅氮键组成,具有高度反应性,可与各种基材形成稳定的键,尤其是那些具有羟基的基材,如玻璃、金属氧化物和陶瓷。 六甲基二硅氮烷的发现可以追溯到 20 世纪中叶人们对有机硅化合物的兴趣日益浓厚。硅烷能够与羟基反应并形成硅氧烷键,这使 HMDS 成为一种具有广泛工业应用的多功能化合物。六甲基二硅氮烷的合成通常涉及氯硅烷与氨或胺的反应,从而将甲基基团并入硅骨架中。该工艺产生的化合物具有独特的化学性质,例如挥发性低、热稳定性好,并且能够作为各种硅烷基材料的前体。 六甲基二硅氮烷最重要的应用之一是表面改性。由于其能够与硅质表面结合,因此被广泛用于制备玻璃、陶瓷和金属的疏水涂层。这些涂层具有防潮、防氧化和防腐蚀性能,使 HMDS 成为生产电子、光学和汽车零件防护涂层的关键成分。该化合物赋予表面不粘特性的能力也使其在炊具和纺织品等消费品的制造中具有重要价值,因为这些消费品需要防水或防油性。 除了表面改性之外,六甲基二硅氮烷在半导体行业中也发挥着至关重要的作用。它通常用于制造集成电路和微机电系统 (MEMS),在这些系统中它是薄膜沉积的关键成分。 HMDS 用作光刻胶沉积中的底漆或粘合促进剂,确保光刻胶在光刻过程中牢固地粘附在基材上。这一特性对于生产高精度电子元件至关重要,因为薄膜粘合的质量直接影响最终产品的性能和可靠性。 六甲基二硅氮烷的另一个显著应用是在色谱领域,特别是在气相色谱 (GC) 固定相的制备中。它能够与硅胶反应形成硅烷化表面,使其成为色谱材料改性的有效试剂,可提高其在不同条件下的分离效率和稳定性。硅烷化过程为表面提供了增强的性能,例如提高了热稳定性并降低了极性,这有利于优化色谱柱的性能。 六甲基二硅氮烷还用于合成其他硅烷衍生物,并作为生产含硅材料的前体。它在聚合物材料的开发中起着重要作用,因为附着在硅原子上的甲基基团可以与聚合物链相互作用,从而形成柔韧耐用的材料。此外,它能够将硅功能引入有机分子,这使得它在设计具有定制特性的混合有机-无机系统方面很有价值。 总之,六甲基二硅氮烷是一种用途广泛的化学品,广泛应用于表面改性、半导体制造、色谱分析和先进材料的合成。其独特的性能,包括与硅质表面形成稳定键并增强材料性能的能力,确保了它在广泛的工业应用中的持续相关性。随着研究的继续,HMDS 的潜在应用可能会扩大,特别是在与纳米技术和先进材料设计相关的领域。 参考文献 2008. Photolithographic patterning of organosilane monolayer for generating large area two-dimensional B lymphocyte arrays. Lab on a Chip, 8(12). DOI: 10.1039/b810329a 2013. Fast quantification of amino acids by microchip electrophoresis-mass spectrometry. Analytical and Bioanalytical Chemistry, 405(24). DOI: 10.1007/s00216-013-7260-z 2016. Facile Synthesis of Smart Nanocontainers as Key Components for Construction of Self-Healing Coating with Superhydrophobic Surfaces. Nanoscale Research Letters, 11(1). DOI: 10.1186/s11671-016-1444-3 |
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