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| 产品分类 | 有机原料 >> 有机膦化合物 |
|---|---|
| 英文名 | 2-Phosphonobutane-1,2,4-tricarboxylic acid |
| 别名 | PBTC; PBTCA |
| 产品名称 | 2-膦酸丁烷-1,2,4-三羧酸 |
| 分子结构 | ![]() |
| 分子式 | C7H11O9P |
| 分子量 | 270.13 |
| CAS 登录号 | 37971-36-1 |
| EC 号码 | 253-733-5 |
| 分子行输入简码 SMILES |
C(CC(CC(=O)O)(C(=O)O)P(=O)(O)O)C(=O)O |
| 密度 | 1.25 (50% aq.) |
|---|---|
| 危险品标志 |
| ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 危害标签 | H290-H314-H319 说明 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 防护标签 | P234-P260-P264-P264+P265-P280-P301+P330+P331-P302+P361+P354-P304+P340-P305+P351+P338-P305+P354+P338-P316-P321-P337+P317-P363-P390-P405-P406-P501 说明 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 危害分类 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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| 危险品运输编号 | UN 3265 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| SDS | 化学品安全技术说明书参考文本 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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2-膦酰基丁烷-1,2,4-三羧酸 (PBTC) 是在 20 世纪后期开发的,当时人们对有效的水处理解决方案的需求不断增长,以治理工业系统中的水垢和腐蚀。研究人员寻求一种能够有效抑制水垢形成并在恶劣条件下保持稳定的化合物。PBTC 呈无色至淡黄色液体或结晶固体,高度溶于水。它结合了三个羧基和一个膦酸基团,使其具有很强的金属螯合能力。这种结构使 PBTC 能够螯合钙、镁和铁等金属离子,防止它们沉淀并最大限度地减少水垢形成。这一发展标志着阻垢技术的重大进步。 PBTC 主要用于工业水处理系统。它螯合金属离子的能力使其能够有效地防止冷却塔、锅炉和热交换器中形成水垢。它还通过在金属表面形成保护膜来提供防腐作用,从而降低设备维护成本。PBTC 用于反渗透系统,以防止膜污染和结垢。它与膜材料的兼容性以及在螯合金属离子方面的高效性使其成为海水淡化和水净化过程中的首选阻垢剂。 PBTC 可以用于洗涤剂配方,因为它能够提高清洁性能。通过螯合硬水中的金属离子,可以防止它们干扰表面活性剂,从而提高清洁剂的有效性并减少洗涤剂的使用。PBTC 还用于工业清洁应用,以防止设备上积垢并提高清洁过程的效率。有助于保持最佳运行条件并延长机器的使用寿命。 在石油和天然气工业中,PBTC 用于控制钻井和生产作业中的水垢形成。它有助于防止管道、油井和加工设备中的水垢积聚,确保不间断生产并降低运营中断的风险。PBTC 的腐蚀抑制特性可用于保护各种石油和天然气基础设施中的金属表面,有助于设备的完整性和使用寿命。 PBTC 用于纸浆和造纸工业,以控制纸浆蒸煮器、漂白系统和造纸机中的结垢。其螯合特性有助于保持系统清洁度并提高生产过程的效率。它还可用作加工助剂,通过防止金属离子污染并改善最终产品的亮度和质地,提高纸产品的稳定性和质量。 PBTC 在农业应用中用作微量营养素溶液和肥料的稳定剂。其螯合作用可确保植物获得必需营养素,提高吸收率和有效性,同时防止营养素在土壤中滞留。 与传统药剂相比,PBTC 具有卓越的阻垢和金属离子封存能力,可在各种工业应用中提供可靠的性能。它在高温和 pH 值变化下的化学稳定性使其适合在各种苛刻的环境中 使用。PBTC 可生物降解且毒性低,是水处理和其他应用的环保选择。 PBTC 通常被认为其预期用途是安全的,它无毒且可生物降解,可减少对环境的影响。但是,处理指南建议使用防护设备以避免皮肤和眼睛接触,因为 PBTC 可能会轻微刺激。 参考文献 2024. Research Status of Copper Film Slurries for Through-Silicon Via Process. Journal of Electronic Materials, 53(12). DOI: 10.1007/s11664-024-11629-1 |
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